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膜厚與表面特性
光譜膜厚量測系統
- 特點
- 利用光譜儀量測樣品反射干涉光譜訊號，以獲取薄膜厚度、折射率、消光係數、穿透率、反射率及色度...等材料。
介紹
- 在震動環境下，仍可獲取準確數值
- 適用於產線 In-line檢測
- 利用光譜儀量測樣品反射干涉光譜訊號，以獲取薄膜結構及材料參數
- 薄膜厚度、折射率、消光係數、穿透率、反射率及色度量測
- 應用於半導體、顯示器、觸控面板、太陽能電池、光學鍍膜等產業
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項目 |
規格 |
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Measurement Type |
Macro System |
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Spot Size （Dia.） |
1～5 mm |
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Wavelength Range |
350～850 nm （Option） |
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Thickness Range |
10 nm～30μm（up to 250 μm） |
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Thickness Repeatability |
<1 nm @ 500 nm Oxide on Si substrate |
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Transmission Repeatability |
<0.5% |
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Reflection Repeatability |
<0.5% |
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Chromaticity Repeatability |
x，y < 0.0005 |
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Data Interface |
USB |
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Layer Numbers |
Up to 5 (or more) |
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Film Materials |
Oxide，Nitride， ITO，CF，OLED film@ Si，Glass，PET. |
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Others |
折射率(n)、消光係數(k)、反射率、穿透率、色度量測 |
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